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蘋果新專利曝光:iPhone7將回歸iPhone4設(shè)計?
2015/7/26 8:33:40 來源:中國產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究網(wǎng) 【字體:大 中 小】【收藏本頁】【打印】【關(guān)閉】
核心提示: 雖然媒體最近都將目光放在iPhone6s上,但蘋果顯然不太想讓這款產(chǎn)品曝光的更多。最近蘋果一份新的專利曝光,在下一代蘋果iPhone7上,更為經(jīng)典的iPhon雖然媒體最近都將目光放在iPhone6s上,但蘋果顯然不太想讓這款產(chǎn)品曝光的更多。最近蘋果一份新的專利曝光,在下一代蘋果iPhone7上,更為經(jīng)典的iPhone4造型會更加醒目。
在這份專利中顯示,蘋果公司正在研發(fā)一種能夠使智能手機金屬邊框平坦有光澤同時邊緣銳利的新方法。從專利設(shè)計上可以看出,iPhone7的設(shè)計非常接近于當(dāng)年大獲成功的iPhone4。當(dāng)然,專利上的設(shè)計僅僅只是一種可能,至于iPhone7是否真的會采用這種設(shè)計,還是等到明年9月份吧。
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