蘋果將在今年發布的iPhone6s和iPhone6s Plus將不會在外觀上有太大的變化，因此對于明年的iPhone7，大家似乎更加充滿了興趣。之前有一位名叫Ivo Maric的藝術家在自己的Instagram賬號上放出了自己將iPhone4和iPhone6設計風格融合到一起的iPhone7假想圖，收到了不少人的關注。而根據最新的跡象來看，對于之前iPhone4所采用了有棱角及平面設計風格感興趣的不僅僅是設計師們，就連蘋果公司本身也沒有放棄這種想法。

　　根據蘋果的一份最新專利顯示，蘋果正在研發一種能夠使智能手機金屬邊框平坦有光澤同時邊緣銳利的新方法。而這份專利還詳細的描述了自己的想法概要。

　　不過這份專利本身并不能說明太多問題，畢竟這項專利可以應用在任何大小和形狀的設備上，比如AppleWatch和MacBook等，而并不僅僅局限于iPhone。從圖片上的設計風格來看，非常接近于當年大獲成功的iPhone4。而iPhone4的發布時間是2010年6月，而蘋果這項專利的提交時間在2015年7月。